在另辟蹊径的路上，华夏成功研制了超分辨光刻装备，走在了世界前列，在孟谦挂掉之前，超分辨光刻技术已经开始向光刻机方向攻坚，一旦超分辨光刻技术成功应用，说是下一代光刻机技术也不为过，因为它实实在在的打破了传统限制。
在跟着阿斯麦走的这条路上，清华大学的朱教授带领的团队在2014年研发出同步扫描指标实测达到MA：2.2nm、MSD:4.7nm的工件台α样机，使华夏成为第二个掌握此技术的国家，之后没多久，华卓精科向市场推出商用光刻机双工件台产品。
2016年长光所成功研制了波像差优于0.75nmRMS的两镜EUV光刻物镜系统，2017年32nm线宽的13.5nm极紫外光EUV光刻曝光系统通过验收。
2019年科益虹源成功商用的浸没式193nm准分子激光器，2020年，哈工大的DPP-EUV来了。
除此之外，江大成功研发11nm制程浸没式光刻机的浸液系统，南大光电研发出193nm光刻胶，华为自研EDA已进行7纳米验证。
这里还有很重要的一点，绝大部分的技术华夏都是全球第二，也是全球唯二。
也就是说不管网友怎么嘲讽华夏的光刻机技术，华夏的光刻机技术到2019年基本已经做到了全球第二。
一群在生活中可能干啥都没拿过第二的人天天嘲讽华夏光刻机技术落后，这帮人才是真不知道哪来的自信。
“孟总？”
王大岩把孟谦从未来的思绪中拉了回来，“不好意思。”
“想什么呢想的那么入迷？”
“我就是突然想到，人都喜欢光鲜亮丽的英雄，但世界往往是一群默默无闻的无名英雄在推动着。
大风集团的成功还不是因为国家有底子有人才，不然光靠我一个人，又能做的了什么呢？
所以与其说是我推了大家一把，准确来说应该是大家推了我一把才对。
我相信只要有这样一群人在，很多事情只是早一点和晚一点的区别的吧。”
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