“一般是一次曝光数行，基底需要挪动位置，使光能将所有的区域都曝光”
“我们设想的工艺节点为180 毫米到130 毫米”
“在掩膜板上我们想按照掩膜板1:1来”
“进行全尺寸曝光”
“我们还有一种设想就是一种步进重复投影光刻”
“我们工程师想着是使用透镜系统将掩模上的图案在小面积上逐个投影到基底上”
“每次曝光一个小区域后，基底会移动到下一个位置，直到整个基片都被曝光”
“一个曝光区域就是一个shot”
“工程师们考虑到它是通过透镜系统投影”
“所以我们计划使用365nm紫外光时使用的是5倍版”
“也就是掩膜版上图形尺寸是实际光刻胶上的尺寸的5倍”
“所以在掩膜板上我们设想着可以设计更复杂的图形”
“但是这种方式就会增加了棱镜系统的制作难度”
“哈哈这位先生”
“我想你们没有考虑过一种扫描步进投影光刻机”
“扫描步进投影光刻?”
“是的这位先生”
“在高端的半导体制造中一般会用到此种机型”
“他主要是用于0.18 毫米工艺”
“这种光刻机在起曝光过程中”
“掩膜版在一个方向上移动，同时晶圆在与其垂直的方向上同步移动”
“这种光刻机的特点就是增大了每次曝光的视场”
“提供硅片表面不平整的补偿；提高整个硅片的尺寸均匀性”
“当然正是这些特点，因为需要反向运动，增加了机械系统的精度要求”
“这种通常比其他曝光机具有更高的生产效率，设计和制造都非常复杂”
“那么他的购买和维护成本都将会是很高的”
“高精度双面光刻主要用于”
中小规模集成电路”
“半导体元器件”
“光电子器件”
“声表面波器件”
“薄膜电路”
“电力电子器件的研制和生产”
“这种双面光刻机包括运动控制系统、图像处理系统、系统软件、数据I/O处理控制单元。”
啪啪啪啪
全场掌声
“张成先生你讲的对于我们来说实在是打开眼界”
“在你之前我们的光刻机技术就是处于摸索状态”
“我们的设想和你们相比较就差的很多”
“在这一块全球半导体集团和中国却是是走在了我们前面了”
“我们只是有着简单的光刻机的理论”
“我们目前研发的光刻机和你们的相比较就差远了”
“你是？”
“张成先生”
“我介绍一下自己”
“我是美国第一家研究光刻机的公司总工程师”
张成没有想到这队伍里面居然有个美国光刻机研究机构派来的工程师
自己刚刚讲的这些恐怕对于这位工程师有着很大的启发吧？
“哈哈先生你客气了”
“希望我刚刚的演讲对你有着很大的我启发”
“张成先生你的这次演讲对于我们来说启发实在是太大了”
“你就像那大西洋上哪波涛汹涌的浪潮中的一盏明灯一样”
“给了我们的前进的方向”
“我们的光刻机也是在不断的摸索着”
“张成先生我可以将你讲的那些话记录下来么？”
“目前的美国乃至全球都是落后于全球半导体集团的”
“我们想要邀请你去美国为我们介绍一下你们的半导体技术可以么？”
张成沉思的说到“这位先生实在不好意思”
“你知道的”
“全球半导体集团目前没有合适的人选负责”
“所以也是由我来兼任着全球半导体集团的经理”
“但是我不光是全球半导体集团的经理我还是西北工业集团的总经理”
“我的事情很多的”
“西北工业集团离不开的”
“所以抱歉先生你的要求我可能达不到了”
“没关系的张成先生”
“我们始终欢迎你的到来”
“对于你为半导体行业做出的贡献我们很是认可的”
“也是我们学习的榜样”
“谢谢你的夸奖先生”
“我以后有机会一定去美国的”
“好的，张成先生”
“美国是一个自由的国度”
“我们欢迎每一个像你这样的优秀人才”
“哈哈哈先生客气了”
“全球半导体集团不光是我一个人的成就也是大家共同努力的结果”
“我们的每一个工程师的贡献都是我们全球半导体集团的建立发展的基石”
“在这些人的共同努力下才有了我们现在全球半导体今天的成就”
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