至此，徐端颐才相信了元亨集团是真的有实（财）力支持光刻机研究。
待众人落座后，徐端颐对张思明缓缓说道：
“张总，我们团队是一个很大的团队，成员来自学校五个系，人数多达上百人。
我们团队是1971年组建的，只用了一年多，就研发出了中夏第一台光刻机和分步重复照相机，这个成果在1978年获得全国科技大奖。
从1975年开始，我们采用了直接在半导体晶片上光刻集成电路的方法，开始研发‘自动对准分步投影光刻机’。
前后历时五年，我们在1980年研制出了中夏第一台‘自动对准分步投影光刻机’，这是咱们中夏第二代光刻机，获得过国都首届科技成果一等奖。
第二代光刻机在当时已经能批量生产，最细可以加工0.8微米的线，能在单晶片上刻下精细准确的集成电路，填补上了国内的技术空白。
在1987年，我们团队又开始研发更先进的第三代光刻机。
当时我们瞄准的是国际先进水平，设计标准是很高的，可光刻的芯片最大面积为10x10平方毫米，实际有效分辨率为1.25微米，工作台行程160x160毫米，可加工4至6英寸的晶片。
去年年底，第三代光刻机研发成功了。
我们一共生产了三台，一台留在我们学校的研究所，一台给了中夏科学院109所，一台给了国都半导体器件厂。
经过大量的实验，我们第三代光刻机与上一代相比，成品率提高了27%。
我们的成果报上去以后，上面非常重视，领导亲自到学校里考察。
到了今年1月，上面召集了一大批权威专家，在学校里组织了一场规模很大的鉴定会，对我们团队的第三代光刻机进行鉴定，由物理学泰斗王首武先生担任评审组组长，上面的领导也来了好多。
鉴定会的每一环节都特别严格，我在水木这么久，这样的排场还是第一次见。
王守武先生很肯定我们发明的‘在光刻掩模上增加保护膜’这一新方法，还帮我们介绍了一家丑国公司合作生产。
这之后，我们的第三代光刻机连同使用的镜头一起获得了‘国家科技成果奖’，我们学校也成为了国内唯一一个能够自主研发高端光刻机的单位。
能得到王首武先生的赞赏是一件非常难得的事，而且我们的第三代光刻机也通过了非常严苛的鉴定，还接到了很多国内单位的订单，这让我们非常高兴，还以为国产光刻机的前景一片光明，很快就能追上国际一流水平。
万万没想到，我们统共只高兴了两个月。
等到今年3月，国内各单位纷纷取消了订单，就连跟我们长期合作的中夏科学院109所也不要我们的设备了。
如此一来，我们的光刻机没了市场，根本卖不出去，上面和学校也不再拨给我们经费，我们的研究项目也不得不中止，现在组里成员都已经解散了。
光刻机项目没了以后，我只好转去光盘研究。”
说到这里，徐端颐长长地叹了口气，脸上一片愁云惨淡。
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